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實(shí)時(shí)膜厚檢測(cè)儀
- 產(chǎn)品型號(hào)：DIGILEM-CPM-Xe/Halogen
- 更新時(shí)間：2024-03-19
- 產(chǎn)品介紹：實(shí)時(shí)的干涉測(cè)量設(shè)備，提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測(cè)。單色光打在樣品表面，由于膜厚和高度變化導(dǎo)致不同的光路長度時(shí)，使用干涉測(cè)量法。通過循環(huán)，系統(tǒng)能在監(jiān)控區(qū)使用實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的方法計(jì)算蝕刻和鍍膜的速度，在規(guī)定的膜厚和槽深來進(jìn)行終點(diǎn)檢測(cè)。基于這個(gè)相對(duì)簡單的理論，系統(tǒng)不但非常穩(wěn)定，并且可用于復(fù)雜的多層薄膜。
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產(chǎn)品介紹
概要
實(shí)時(shí)的干涉測(cè)量設(shè)備，提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測(cè)。單色光打在樣品表面，由于膜厚和高度變化導(dǎo)致不同的光路長度時(shí)，使用干涉測(cè)量法。通過循環(huán)，系統(tǒng)能在監(jiān)控區(qū)使用實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的方法計(jì)算蝕刻和鍍膜的速度，在規(guī)定的膜厚和槽深來進(jìn)行終點(diǎn)檢測(cè)。基于這個(gè)相對(duì)簡單的理論，系統(tǒng)不但非常穩(wěn)定，并且可用于復(fù)雜的多層薄膜。
特征
- 監(jiān)測(cè)透明薄膜的厚度和高度，如GaN,ALGaN,SiO2 和SiN。
- 適用于等離子體頻譜分析。
- 生產(chǎn)線使用內(nèi)置軟件。
- 終點(diǎn)檢測(cè)法的靈活應(yīng)用。
- *的加工特點(diǎn)。